Stand B22
SENTECH bietet seit vielen Jahren erfolgreich Systeme der Plasmaprozesstechnologie und Dünnschichtmesstechnik an. Wir setzen dabei auf die Qualität, Flexibilität und Automatisierbarkeit der Systeme. Anwendungen sind das Herstellen und Messen von dünnen Schichten und das Ätzen von Mikro- und Nanostrukturen. Die Nutzer finden sich in der Halbleiterindustrie, Optik, MEMS, Telekommunikation, Sensorik und vielen weiteren Gebieten. SENTECH bietet folgende Technologien an: Reaktives Ionenätzen, Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung, Atomlagenabscheidung, Ellipsometrie und ReflektometrieSENTECH vertreibt Anlagen zur Plasma-Prozess-Technologie (Ätz-/Beschichtungsanlagen, ALD, ALE) und Messgeräte zur optischen Dünnschichtmesstechnik (Ellipsometer und Reflektometer).
Plasma-Prozess-Technologie:
ICP Ätzanlage für schädigungsarmes Ätzen, RIE Ätzanlage, ICPECVD Anlage für schädigungsarmes Beschichten, ALD und ALE Anlagen. Alle Anlagen können in einen Cluster integriert werden.
Optische Dünnschichtmesstechnik:
SENresearch 4.0 mit breitem Spektralbereich von 190 – 3.500 nm, SENDIRA MIR spektroskopisches Ellipsometer, SENDURO MEMS eine automatisierte Messplattform, Laser Ellipsometer u.a.
Auftragsmessungen, Auftragsbeschichtungen, Auftragsätzungen